CUMEC硅基光電子MPW流片開放預訂

  ICC訊 2020年5月30日，聯合微電子中心(CUMEC)在重慶向全球發布“180nm成套硅光工藝PDK”，標志著聯合微電子中心具備硅基光電子領域全流程自主工藝制造能力，正式向全球提供硅光芯片流片服務。

  網站：https://service.cumec.cn/schedule

  1. 硅光MPW流片日程安排(MPW Schedule)

  CUMEC硅光第一批有源流片預定6月30日注冊截至，還有部分空位，預訂從速!

  2、工藝技術(Technology)

  CUMEC硅光工藝平臺基于8英寸(200mm) CMOS工藝，憑借先進的248nm DUV光刻技術，實現180nm工藝節點，目前CUMEC硅光工藝平臺提供的工藝技術包括：

  3、基礎器件(Baseline Block)

  4、流程

  簽署NDA

  登錄網站https://service.cumec.cn/下載CUMEC CSiP180Al NDA文件，并完成信息填寫和簽署。

  獲取PDK

  請將掃描件發送至service@cumec.cn

  工作人員將在3個工作日內完成NDA文件的審核和反饋，并發送PDK到注冊郵箱。

  注冊流片

  發郵件至service@cumec.cn注冊流片，我方工作人員會與您確認流片信息。

  CUMEC簡介：

  聯合微電子中心有限責任公司(簡稱CUMEC公司)是重慶市政府重磅打造的國家級國際化新型研發機構，于2018年10月在重慶注冊成立，首期投資超100億元。CUMEC公司針對國家微電子行業高端發展的需求，著力打造集技術、產品和工藝為一體的光電融合高端特色工藝，以硅基光電子、異質異構三維集成、鍺硅射頻等工藝技術和產品技術為核心，聚焦“后摩爾時代”世界集成電路發展主流趨勢，探索“超越摩爾”的行業發展模式，匯聚海內外一流集成電路人才，打造國際一流的集成電路研發中心。