Intense推出下一代高功率泵激光二極管模塊系列

        【訊石光通訊咨詢網】5月27日消息，為期4天的2011年慕尼黑世界激光光電展昨日落下帷幕，來自美國新澤西的Intense公司，一家單片激光器陣列產品、高功率單發射激光二極管和光電子系統生產商及供應商，在會上展示其下一代原型版本8000 793nm高功率泵激光二極管模塊系列。

        新的多射泵模塊能夠為0.15或0.22數值孔徑（NA）105μm芯光纖提供20W輸出功率，滿足激光泵眼安全及銩摻雜光纖激光系統領域的日益增長的需求。該泵模塊用于國防和航空航天（如激光雷達和直接紅外對抗），并取代現有的醫療和工業應用二極管泵浦固態（半導體泵浦）技術。

        Intense表示，高功率泵激光二極管模塊系列的功率應用范圍在4-5W，是一個穩健且具成本效益的解決方案。同樣的高功率芯片技術被應用在793nm MFPs（多功能一體機），可達到最大20W的光泵浦功率。

        “793nm芯片下一代多發射器模塊是793nm MFP產品線的一個重要延伸，其包含一個單一的激光二極管和產量約4.5W的光纖耦合輸出功率。”Intense總裁Berthold Schmidt說道。