芯光學院-集成電路先進光刻技術與版圖設計優化名家講堂

ICCSZ訊  芯光學院，是先導院成立的培訓業務品牌，面向全國微電子和光電行業領域進行人才培養，致力于為國家核心技術行業提供源源不斷的人才儲備。我們的目標，是打造西北地區實訓基地，讓更多進入這個行業的新人能夠在培訓中提升實操技能。我們擁有近200名國內外專家智庫團隊，與國內外專業平臺聯合辦學，充分有效了解行業最新技術，提升行業認知，可以為學員提供精準和專業的輔導，打通職場晉升之路。

活動主題
名家講堂-集成電路先進光刻技術與版圖設計優化
主辦單位
工業和信息化部人才交流中心（MIITEC）
陜西光電子集成電路先導技術研究院
承辦單位
IC智慧谷
時間地點
時間：2018年10月10日-11日（周三-周四）
地點：陜西光電子集成電路先導技術研究院（陜西省西安市畢原一路）
支持媒體
訊石光通訊網、光纖在線、芯師爺、芯司機、芯通社、芯智訊、芯片超人、半導體行業觀察、半導體行業聯盟、光刻人的世界、IC咖啡、芯榜、半導體圈、中國半導體論壇、EETOP、矽說等。

專家介紹

中組部第八批“千人計劃”入選者，中國科學院微電子研究所研究員，博士生導師；1998年畢業于德國Stuttgart大學/馬普固體研究所，獲博士學位，師從諾貝爾物理獎獲得者Klaus von Klitzing；先后在美國能源部橡樹嶺國家實驗室、美國英飛凌公司紐約研發中心、美國格羅方德公司紐約研發中心工作；由于在193nm浸沒式光刻技術上的開創性貢獻，于2009年受SPIE邀請出版專著“Advanced processes for 193nmimmersion lithography”，該書已被美國多所高校和研究機構作為研究生的教材和主要參考書；發表了70篇的專業文獻并持有多項美國專利。
韋亞一博士長期從事半導體光刻領域設備、材料和制程研發，先后參與或主持了從180nm一直到10nm節點的光刻工藝研發，具有豐富的先進光刻研發經驗，取得了多項核心技術。
2013年7月回國工作，首先作為項目首席科學家主持了國家02重大專項“300mm晶圓勻膠顯影設備和光刻工藝研發”（沈陽芯源微電子設備有限公司）；在中科院微電子所建立了計算光刻課題組，從事20nm以下技術節點的光源-掩模協同優化（SMO）和光學鄰近效應修正（OPC）研究；韋亞一的研究成果被廣泛應用于國內FinFET和3D NAND的量產工藝中；2016年7月在科學出版社出版了“超大規模集成電路的先進光刻理論與應用”一書；2017年3月計算光刻課題組升格為計算光刻研發中心，并被北京市授予中關村開放實驗室，韋亞一博士任中心和開放實驗室主任。
1.光刻技術相關設備及材料概
1.1光刻技術概述
1.2光刻技術相關設備
1.3光刻技術相關材料
1.4光刻工藝的設定與監控
2.計算光刻
2.1光刻成像模型概述
2.2傳統的分辨率增強技術
2.3光源-掩模聯合優化技術
2.4光學鄰近效應修正技術
3.設計與工藝聯合優化（DTCO）技術
3.1DTCO 的概念和分類
3.2基于先進光刻技術的DTCO 與基于壞點處理的DTCO
3.3完整的DTCO 流程及在工業中的應用
1.請使用微信掃描下方二維碼，在線報名： 2.郵件報名
報名回執表下載鏈：http://www.icplatform.cn/form
填寫報名回執表并發送Word電子版至“芯動力”人才計劃郵箱：icplatform@miitec.cn
回執表文件名及郵件標題格式為：“報名+第77期+單位名稱+人數?！?nbsp;
1. 注冊費：3800元（2天）
注：費用含授課費、場地費、資料費、活動期間餐飲，不含學員交通、住宿等費用（學員自理）。
在線報名請選擇“普通學員注冊”通道
2. 芯動力合作單位學員、中科創星投資服務企業：3300元
在線報名請選擇“合作單位學員注冊”通道
3.付款與開票
國信芯世紀南京信息科技有限公司為本期名家講堂開具發票，發票內容為培訓費。請于2018年10月10日前將注冊費匯至以下賬戶，并在匯款備注中注明款項信息（第77期+單位+參會人姓名）。
4.付款信息
戶  名：國信芯世紀南京信息科技有限公司
開戶行：中國工商銀行股份有限公司南京浦珠路支行
帳  號： 4301014509100090749
或請攜帶銀行卡至活動現場，現場支持 POS 機付款。
報名截止日期：2018年10月9日12：00
活動具體咨詢：
張志軍18009256681（微信同號）