突發！荷蘭升級光刻機管制！ 商務部回應！

  ICC訊  荷蘭政府頒布了限制某些先進半導體設備出口的新規定，這些規定將于9月1日生效!

  在荷蘭政府限制出口的消息傳出后，光刻機巨頭ASML第一時間在官網發表聲明稱，該公司未來出口其先進的浸潤式DUV光刻系統(即TWINSCAN NXT:2000i及后續浸潤式系統)時，將需要向荷蘭政府申請出口許可證。

  而荷蘭政府將決定是否批準或拒絕所需的出口許可證，并就任何適用的條件向阿斯麥提供進一步的細節。

  ASML強調，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統，并非所有浸潤式DUV光刻系統。ASML表示其EUV光刻系統在此前已經受到限制。ASML其他系統的發運未受荷蘭政府管控。

  商務部：中方對此堅決反對

  據商務部官網消息，有記者問，6月30日，荷蘭宣布將部分光刻機等半導體相關產品納入出口管制。中方對此有何評論?

  對此，商務部新聞發言人表示，中方注意到相關報道。近幾個月以來，中荷雙方就半導體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。但荷方最終仍將相關半導體設備列管，中方對此表示不滿。近年來，美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，濫用出口管制措施，甚至不惜犧牲盟友利益，脅迫拉攏其他國家對中國實施半導體打壓圍堵，人為推動產業脫鉤斷鏈，嚴重損害全球半導體產業發展，中方對此堅決反對。

  商務部新聞發言人強調，荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。